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イットリアコートチューブ
CVDイットリアコート
酸化物コーティング
Nanoメッシュ酸化チタン
大気開放型CVD装置
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大気開放型CVD装置

真空排気不要の大気開放型CVD装置です。透明導電膜から高性能光触媒膜や
耐プラズマ膜で注目されている酸化イットリウム膜の作製が可能です。
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Y軸揺動機構の追加により膜厚均一性向上
                          
                         製品情報 |大気開放型CVD装置パンフレット (PDF : 573KB)
                         

主な仕様

電源 単相200V
外形寸法 幅1024mm×奥行738mm×高1825mm
基板加熱台 最大700℃ プレートサイズ□110mm
成膜温度 350〜650℃ ※1
基板サイズ 膜厚均一性有効面積 □25mm
膜厚均一性 ±10%以下
気化器 標準仕様1台 最大3台まで搭載可能 ※2
加熱台材質 SUS316L
※1 作製材料及びお客様の仕様によって異なります。
※2 気化器の最大加熱温度は200℃と300℃を選択できます。
写真は気化器を二台にした仕様

作製例
ZnO:Al
Y2O3:Eu
などが作製可能です。

その他、細かな仕様はお問合せください。
大学、研究機関等でカスタマイズした仕様をご希望の方もお問合せください。