![](https://www.cvd.co.jp/wp/wp-content/uploads/2020/12/atmosphericcvd.jpg)
真空排気不要のCVD装置
透明導電膜から高性能光触媒膜や耐プラズマ膜で注目されている酸化イットリウム膜の作製が可能です。
※現在、製作と販売は行っておりません。
施工条件
処理温度 :350 ~ 650℃(最大700℃)
処理サイズ:□25 x 25 mm2(膜厚均一性有効面積)
□110 x 110 mm2(プレートサイズ)
材質 :石英ガラス、セラミックス、金属
参考事例
![](https://www.cvd.co.jp/wp/wp-content/uploads/2020/12/ZnO-Whisker.png)
酸化亜鉛ウイスカ
ZnO Whiskers
![](https://www.cvd.co.jp/wp/wp-content/uploads/2020/12/red-phosphor.jpg)
蛍光体薄膜
red phosphor
Y2O3:Eu
真空排気不要のCVD装置
透明導電膜から高性能光触媒膜や耐プラズマ膜で注目されている酸化イットリウム膜の作製が可能です。
※現在、製作と販売は行っておりません。
処理温度 :350 ~ 650℃(最大700℃)
処理サイズ:□25 x 25 mm2(膜厚均一性有効面積)
□110 x 110 mm2(プレートサイズ)
材質 :石英ガラス、セラミックス、金属
酸化亜鉛ウイスカ
ZnO Whiskers
蛍光体薄膜
red phosphor
Y2O3:Eu